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介 紹
株式會社天谷製作所: http://www.amaya-cvd.co.jp/index.html

大氣化學氣相沉積設備
(AP-CVD)廣泛運用於Semiconductor Solar Cell

規 格
  • 目前在台應用機種 – AMAX800V大氣化學氣相沉積設備
  • 可應用於各式沉積膜之不同機種,如:SiO2BPSGBSGPSGAlOx
  • 可在200℃ 到500℃ 的溫度範圍進行沉積膜製程
  • 機台零件販售
  • 機台現場維修服務
  • 機台軟體/硬體改造服務